真空薄膜作製装置

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KS-208X型 小型真空蒸着装置

KS-205x型 真空蒸着装置

KSP-200X型 蒸着用機構部品

KS-807X型 電子ビーム蒸着装置

KS-105X型 原子/ラジカル・ビーム源

KS-601X型 レーザーアブレーション装置

真空蒸着装置


電子ビーム蒸着装置

原子/ラジカル・ビーム源

レーザーアブレーション装置


1×10-5Pa以下
蒸着ボート×3
1.5kw
3ヶ,手動
10×26mm,300℃,水冷,マスク切替
100mm
バリアブルリークバルブ
SUS304,バフ研磨電解研磨
ターボ分子ポンプ250L/S(N2
ドライスクロールポンプ250L/M
ヌードイオンゲージ(10-1〜10-9Pa)
サーモカップルゲージ(大気〜10-1Pa)
膜厚計,ベルジャー昇降用電動リフト












作製室到達真空度
蒸着源
蒸着電源
シャッター
基板ホルダー
基板上下移動
ガス導入
作製室
作製室排気系

真空計

その他
1×10-5Pa以下
蒸着ボート×3
1kw
1ヶ,手動
φ2”,上下±100mm
SUS304,バフ研磨電解研磨
ターボ分子ポンプ68L/S(N2
ロータリーポンプ90L/M
ヌードイオンゲージ(10-1〜10-9Pa)
コンベクトールゲージ(大気〜10-1Pa)








作製室到達真空度
蒸着源
蒸着電源
シャッター
基板ホルダー
作製室
作製室排気系

真空計

各種の内部機構及び部品の設計/製作します。
ロードロックチャンバー
基板直線・回転機構
基板直線・回転機構コントローラ
基板回転・チルト機構
固定式基板ホルダー
基板ヒーター
ポンプ停電保護機構

作製室到達真空度
電子銃
蒸着電源
基板ホルダー
作製室
作製室排気系

真空計

その他









1×10-5Pa以下
2kw3連E型電子銃
2kw
φ4”,800℃,冷水
SUS304,ハブ研磨電解研磨
ターボ分子ポンプ250L/S(N2
ロータリーポンプ250L/M
ヌードイオンゲージ(10-1〜10-9Pa)
サーモカップルゲージ(大気〜10-1Pa)
膜厚計,ベルジャー昇降用電動リフト



KS-503X型 有機化合物薄膜作製装置


5×10-6Pa
有機化合物溶液噴射
4”,ランプ加熱
XY軸±2”,ステッピングモーター駆動
SUS304,バフ研磨電解研磨
大型LN2クライオバッフル
ドライスクロールポンプ491L/M
ターボ分子ポンプ470L/S(N2
ロータリーポンプ375L/M
ヌードイオンゲージ(10-1〜10-9P)









作製室到達真空度
蒸着源
基板ホルダー
基板移動
作製室
作製室排気系



真空度
5×10-6Pa
各種レーザー光を使用
1ヶ,ステッピングモーター駆動
1軸回転360°高精度ステッピングモーター,800℃
SUS304,バフ研磨電解研磨
ターボ分子ポンプ250L/S(N2
ロータリーポンプ250L/M





薄膜作製室到達真空度
蒸着源
シャッター
基板ホルダー
薄膜作製室
薄膜作製室排気系
チャンバーの内側(短ライフタイム対応型)
13.56MHz
最大500W
石英
20mm
石英
ICF114
0.3mm×9個
ホトダイオード出力
ミニコン
水冷










放電コイル位置
RF周波数
RF出力
放電管材質
放電管直径
真空シール
取付フランジ
オリフィス寸法
ビームモニター
ガス導入
放電コイル冷却

納入実績

真空蒸着装置
複合型薄膜作製装置
(電子ビーム/抵抗加熱,スパッタ/抵抗加熱)

理学部、工学部、
低温センター、
物性研、駒場
その他多数
理学部、通研、
工学部
理学部、工学部
化研